上海宝冶国家存储器基地项目首批业主入驻

中国网/中国发展门户网讯 近日，上海宝冶参建的国家存储器基地项目（一期）D标段工程ADB总部研发大楼迎来首批业主入驻。

国家存储器基地项目（一期）D标段工程ADB总部研发大楼坐落于武汉光谷未来科技城内，总建筑面积为9.9万平方米，地上建筑共6层，地下建筑共2层，是目前全球单体面积最大的芯片生产制造厂房，项目于6月15日通过竣工验收。

根据业主方要求，7月10日4层、6层GM、董办、工会、HR、内控、内审、IP部门迁入，7月15日ADB1层、2层ESH、供应链管理部门迁入，7月16日ADB3层CP、PC、创新中心部门迁入，7月17日ADB5层TC部门迁入。

为确保业主如期入驻，项目部全体人员加班加点调试空调机组噪音、修复暖通管道结露、打扫机房卫生，粘贴5000余张设备标识，做好防洪应急处理，切实做好满足业主入驻的各项准备工作。（刘康乐）