我国研制超分辨光刻装备取得重大进展

中国网/中国发展门户网讯（记者 孔令瑶）11月29日，由中国科学院光电技术研究所承担的国家重大科研装备——超分辨光刻装备项目在成都通过验收。

微纳光刻技术是现代先进制造的重要方向，是信息、材料等诸多领域的核心技术，其水平高低也是体现一个国家综合实力的标志。然而，由于历史原因，我国在此领域长期落后于并受制于西方发达国家；另外一方面，光学超材料、变革性光学等诸多颠覆性技术的出现，迫切需要发展专用的微纳制造工具。

中科院光电所科研人员操作超分辨光刻设备。中科院科技摄影联盟供图。

2012年，中国科学院光电技术研究所承担了国家重大科研装备——超分辨光刻装备项目。经过近6年艰苦攻关，在无国外成熟经验可借鉴的情况下，项目组突破了高均匀性照明，超分辨光刻镜头，纳米级分辨力检焦及间隙测量，超精密、多自由度工件台及控制等关键技术，完成了国际上首台分辨力最高的超分辨光刻装备研制。

项目副总设计师胡松研究员介绍超分辨光刻装备研制项目攻关情况。中科院科技摄影联盟供图。

项目副总设计师胡松研究员介绍，项目组结合实际应用需求，通过技术的延伸，实现了系列化的超分辨光刻装备研制，解决了多种微纳功能材料和器件的加工难题，并实现了相关器件的制造。相关器件已在航天八院、电子科大太赫兹科学技术研究中心、四川大学华西医院、中科院微系统所信息功能材料国家重点实验室等多家科研院所和高校的重大研究任务中取得应用。

表面等离子体超分辨光刻装备的成功研制，打破了传统光学光刻分辨力受光源波长及数值孔径的传统路线格局，形成了一条全新的纳米光学光刻技术路线，具有完全自主知识产权，为超材料/超表面、第三代光学器件、广义芯片等变革性战略领域的跨越式发展提供了制造工具。后续需进一步加大装备的功能多样化研发和推广应用力度，推动国家相关领域发展。