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英特尔大连工厂65纳米工艺已经获美国政府批准
中国发展门户网 www.chinagate.com.cn  2008 年 02 月 28 日 
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记者昨天证实,正在紧张建造的英特尔大连芯片工厂采用65纳米的生产工艺已经获得美国政府批准,但最终采用90纳米还是65纳米还未确定。

英特尔2007年3月宣布投资25亿美元巨资在大连新建其位于亚洲的第一座晶圆制造厂。在去年9月奠基时,英特尔宣布大连厂将于2010年开始生产90纳米的晶圆。

英特尔大连芯片厂总经理科比·杰斐逊对媒体透露,美国政府已经批准英特尔大连厂采用65纳米生产工艺,所以英特尔也正考虑大连厂是否要采用65纳米这一更先进的工艺,但最终的情况要根据市场需求而定。

相关人士表示,作为全球最高端的民用科技之一,英特尔的CPU芯片工厂原来都只设立在美国本土、爱尔兰、以色列等西方发达国家。因此,尽管英特尔当初获准在中国设厂,也只能被允许生产90纳米(目前主流CPU最低生产工艺)晶圆。目前CPU最先进的生产工艺为45纳米。

 

来源: 京华时报

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